إنتل تشحن شرائح لابتوب Panther Lake باستخدام تقنية EUV عالية الفتحة NA من ASML

أعلنت Intel عن أقوى نمو فصلي في الإيرادات منذ 15 عامًا، وقالت إنها بدأت الآن بشحن بعض معالجات الحواسيب المحمولة من فئة Panther Lake المصنوعة باستخدام تقنية الطباعة الضوئية High-NA EUV من ASML على بعض طبقات 18A. وتكتسب هذه المحطة أهميتها لأنها تجعل Intel Foundry أول جهة تشحن منتج logic عالي الحجم باستخدام High-NA EUV، وهي أداة تصنيع من الجيل التالي يُنظر إليها منذ فترة طويلة على أنها عنصر أساسي لتقدم تصغير الشرائح وتحسين الأداء. وقالت ASML إن الطبقات المعنية مؤهلة للعمل على أدوات High-NA أو أدوات EUV التقليدية، وإن نسب الإنتاجية تطابق المنصة المعتمدة، ما يشير إلى أن التقنية تُدخل تدريجيًا بدل أن تحل محل الإنتاج القائم.